• Türkçe
    • English
  • Türkçe 
    • Türkçe
    • English
  • Giriş
Öğe Göster 
  •   DSpace Ana Sayfası
  • 1.Fakülteler / Faculties
  • Fen Edebiyat Fakültesi
  • Fizik Bölümü
  • Öğe Göster
  •   DSpace Ana Sayfası
  • 1.Fakülteler / Faculties
  • Fen Edebiyat Fakültesi
  • Fizik Bölümü
  • Öğe Göster
JavaScript is disabled for your browser. Some features of this site may not work without it.

SPUTTER YÖNTEMİYLE ELDE EDİLEN SADE VE BOR KATKILI ORGANİK ARAYÜZEYLİ METAL/p-Si GÜNEŞ PİLLERİNİN KARAKTERİZASYONU

Thumbnail
Göster/Aç
A.bekil tez Son 18 09 2019.pdf (1.746Mb)
Tarih
2019
Yazar
BEKİL, ABDULLAH
Üst veri
Tüm öğe kaydını göster
Özet
ÖZET Bu çalışmada, suda çözünen borik asitten sulu çözelti hazırlanarak elektrokimyasal kaplama yöntemiyle Borik asitten bor kaplanabildiği, molibden bir folyo üzerine denenip SEM ve XRD ile teyid edildikten sonra, Borik asit çözeltisi ile Elektrokimyasal kaplama yöntemiyle p-Si üzerine Bor tabakası kaplandı. Bu elektrokimyasal Bor kaplama işlemi literatürde ilk olmuştur. Ardından uyum göstereceği düşünülen organik boyar madde olan Safranin T ile metal/yarıiletken/inorganik-organik/metal yapı elde edildi. Böylece Au/Al/p-Si/Al/Au, Au/Al/B/p-Si/Al/Au, Au/Al/ST/B/p-Si/Al/Au, Au/Al/ST/p-Si/Al/Au yapıları elde edildi. Bununla birlikte tavlamaya ve arayüzey kaplama sürelerine ve damlatılan ST miktarına göre sınıflandırma yapıldı. Elde edilen 13 farklı ölçüm veren bu numuneler 6 gruba ayrıldı. Bu ölçümlerde en iyi Vad değeri Au/Al/ST/B/p-Si/Al/Au numunesinin 400oC’de tavlanmışı için 1,12 V olarak elde edilirken, en iyi dönüşüm verimliliği Au/Al/B/p-Si/Al/Au numunesinin tavlanmamışı için 0,592 olarak ve Fill Faktörü Au/Al/B/p-Si/Al/Au numunenin 400oC’de tavlanmışı için %29,73 olarak elde edilmiştir.
 
ABSTRACT In this study, Boric Acid solution is coated on the p-Si wafer electrochemically after it is confirming by XRD and SEM analysis that Mo foil is coated by a Boron layer in order to define ability of Boron caoting by electrochemical proccess. This electrochemical Boron coating is the first one that done since now. Then, metal/semiconductor/inorgainc-organic/metal structure is obtained by Safranine-T that organic die matter which is thought to be exhibit good conformity. So, Au/Al/p-Si/Al/Au, Au/Al/B/p-Si/Al/Au, Au/Al/ST/B/p-Si/Al/Au, Au/Al/ST/p-Si/Al/Au structures are obtained. With this process classification is made by annealing, interface coating time, and amount of dropped ST. Samples those are obtained which give 13 different measurement grouped into 6. In these measurements, while the best Voc value is obtained as 1.12V for 400oC annealed Au/Al/ST/B/p-Si/Al/Au sample, the best conversion efficiency value is obtained 0,592 for as-deposited Au/Al/B/p-Si/Al/Au sample, and the best Fill Factor is obtained 400oC annealed Au/Al/B/p-Si/Al/Au sample as %29,73.
 
Bağlantı
http://acikerisim.bingol.edu.tr/handle/20.500.12898/5360
Koleksiyonlar
  • Fizik Bölümü [2]





Creative Commons License
DSpace@BİNGÖL by Bingöl University Institutional Repository is licensed under a Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivs 4.0 Unported License..

DSpace software copyright © 2002-2016  DuraSpace
İletişim | Geri Bildirim
Theme by 
Atmire NV
 

 



| Politika | Rehber | İletişim |

sherpa/romeo

Göz at

Tüm DSpaceBölümler & KoleksiyonlarTarihe GöreYazara GöreBaşlığa GöreKonuya GöreBy TypeBu KoleksiyonTarihe GöreYazara GöreBaşlığa GöreKonuya GöreBy Type

Hesabım

GirişKayıt

DSpace software copyright © 2002-2016  DuraSpace
İletişim | Geri Bildirim
Theme by 
Atmire NV